Высокоточное оборудование для литографии УФ-наноимпринтов

Оборудование поддерживает автоматическое копирование рабочих форм из гибких композитных материалов. Рабочие формы обладают характеристиками высокой точности и длительного срока службы, что позволяет значительно снизить затраты на использование форм в процессе нанотиснения большой площади.

Технические характеристики

• 200-миллиметровое высокоточное оборудование для структурной наноимпринтинга с высоким соотношением сторон, которое было произведено серийно и проверено;
• Технология CLIV для обеспечения точности структуры тиснения и целостности начинки;
• Гибкая композитная рабочая форма автоматически копируется в оборудовании для снижения затрат на использование форм для нано-тиснения большой площади;
• Автоматическое выравнивание, автоматическое тиснение, автоматическое отверждение под воздействием, автоматическое высвобождение формы - в процессе не требуется ручного вмешательства;
• Стандартный светодиодный источник поверхностного ультрафиолетового излучения высокой мощности (365 нм, интенсивность света 1000 МВт/см²), с водяным охлаждением и в холодном состоянии, особой мощности и специальные источники света со смешанной длиной волны могут быть настроены индивидуально;
• Стандартное оборудование, внутренняя чистая среда и антистатическое устройство;
• Полный набор процессов и материалов для наноимпринтинга, включая DOE, спиральную решетку AR, структуру высокой плотности с высоким соотношением сторон и массив микролинз.

Технические параметры