Высокоточное оборудование для литографии УФ-наноимпринтов

Оборудование поддерживает автоматическое копирование рабочих форм из гибких композитных материалов. Рабочие формы обладают характеристиками высокой точности и длительного срока службы.

Технические характеристики

• Оборудование для наноимпринтинга на панельном уровне 2-го поколения с высоким соотношением сторон;
• Технология CLIV для обеспечения точности структуры тиснения и целостности начинки;
• Гибкая композитная рабочая форма автоматически копируется в оборудовании для снижения затрат на использование форм для нано-тиснения большой площади;
• Автоматическая замена рабочих форм, подходящих для непрерывного производства;
• Автоматическое тиснение, автоматическая экспозиция и отверждение, автоматическое высвобождение формы, в процессе не требуется ручного вмешательства;
• Стандартный линейный ультрафиолетовый светодиодный источник света высокой мощности (365 нм, интенсивность света 2000 МВт/см²) с водяным охлаждением и холодом, функцией экспозиции области маски, поверхностным источником света, особой мощностью и специальным источником света со смешанной длиной волны, который может быть настроен индивидуально;
• Стандартное оборудование, внутренняя чистая среда и антистатическое устройство;
• Полный набор процессов и материалов для нано-тиснения, включая DOE, спиральную решетку AR, структуру с высокой плотностью и высоким соотношением сторон, матрицу микролинз, матрицу столбчатых линз и другие процессы.

Технические параметры