Основные технические характеристики Semitool 840-F "Dual Stack" Spin Rinser Dryer
|
Параметр |
Значение |
|
Модель |
840-F "Dual Stack" |
|
Тип |
Система промывки и сушки пластин (Spin Rinser Dryer, SRD) |
|
Конфигурация |
Двухуровневая (Dual Stack) — два независимых модуля обработки, расположенных вертикально |
|
Диаметр обрабатываемых пластин |
150–200 мм (6–8 дюймов), опционально до 300 мм |
|
Вместимость кассеты |
До 25 пластин на кассету (стандартная кассета) |
|
Тип обработки |
Промывка деионизированной водой (DIW) с вращением (spin rinse) и сушка с использованием инертного газа (N₂) Метод сушки Сушка с использованием горячего изопропилового спирта (IPA) или азота (N₂) с вращением |
|
Управление процессом |
Программируемый логический контроллер (PLC) с сенсорным интерфейсом |
|
Система загрузки |
Автоматическая или ручная загрузка кассет |
|
Производительность |
До 40–60 кассет в час (зависит от рецепта) |
|
Материалы корпуса |
Высококачественная нержавеющая сталь (316L) и полипропилен (PP) для химической стойкости |
|
Система фильтрации |
Встроенная фильтрация DIW и N₂ |
|
Габариты (Ш × Г × В) |
Примерно 1.2 × 1.0 × 2.2 м |
|
Масса |
Примерно 500–700 кг |
|
Напряжение питания |
200–480 В, 3 фазы, 50/60 Гц |
|
Потребляемая мощность |
Примерно 3–5 кВт |
|
Промывка после химико-механической полировки (CMP) |
Удаление остатков суспензии и загрязнений после CMP |
|
Промывка после травления |
Удаление остатков химических реагентов после мокрого или плазменного травления |
|
Промывка после осаждения |
Удаление остатков прекурсоров и побочных продуктов после CVD, PVD, ALD |
|
Финальная очистка пластин |
Обеспечение высокой чистоты поверхности перед ключевыми технологическими этапами (литография, эпитаксия) |
Производство: Южная Корея
JoomShopping Download & Support