Centura RTR (Rapid Thermal Processing) — это установка быстрой термической обработки (RTP), разработанная компанией Applied Materials для полупроводникового производства. Система входит в семейство платформ Centura и предназначена для высокоскоростного нагрева и охлаждения кремниевых пластин в контролируемой атмосфере. Ниже приведены основные технические характеристики и особенности этой системы.
Основные технические характеристики Centura RTR
|
Параметр |
Значение |
|
Модель |
Centura RTR (Rapid Thermal Processing) |
|
Тип |
Установка быстрой термической обработки (RTP) |
|
Диаметр обрабатываемых пластин |
150–200 мм (6–8 дюймов), опционально 300 мм |
|
Максимальная температура |
До 1250 °C (в зависимости от конфигурации) |
|
Скорость нагрева |
До 200 °C/сек |
|
Скорость охлаждения |
До 100 °C/сек |
|
Равномерность температуры |
≤ ±2 °C (по всей пластине) |
|
Источник нагрева |
Галогенные лампы (массив ламп с независимым управлением) |
|
Газовая система |
Многоканальная подача газов (N₂, O₂, Ar, NH₃ и др.) |
|
Система загрузки |
Однопластинная загрузка (single-wafer) с автоматическим манипулятором |
|
Управление |
Промышленный ПК с программным обеспечением для контроля процесса и регистрации данных |
|
Вакуумная система |
Опционально — возможность работы в вакууме или контролируемой атмосфере |
|
Габариты (Ш × Г × В) |
Примерно 1.8 × 2.2 × 2.4 м (зависит от конфигурации) |
|
Масса |
Примерно 1500–2000 кг |
|
Напряжение питания |
200–480 В, 3 фазы, 50/60 Гц |
|
Потребляемая мощность |
Примерно 20–30 кВт (пиковая) |
Ключевые особенности
- Быстрый нагрев и охлаждение
- Высокая равномерность температуры
- Гибкость по атмосфере обработки
- Автоматизированная обработка пластин
- Модульная конструкция на платформе Centura
Установка построена на базе универсальной платформы Centura, что позволяет объединять несколько технологических модулей (RTP, CVD, PVD и др.) в едином кластере для комплексной обработки пластин без промежуточного воздействия атмосферы.
Производство: США
JoomShopping Download & Support