Основные технические характеристики Centura WCVD
|
Параметр |
Значение |
|
Модель |
Centura WCVD (Tungsten CVD) |
|
Тип |
Химическое осаждение из газовой фазы (CVD) |
|
Диаметр обрабатываемых пластин |
150–200 мм (6–8 дюймов), опционально 300 мм |
|
Прекурсоры |
WF₆ (гексафторид вольфрама), H₂, SiH₄ (силан), Ar |
|
Осаждаемые материалы |
Вольфрам (W), зародышевый слой вольфрама (W nucleation) |
|
Температура осаждения |
300–500 °C (в зависимости от рецепта) |
|
Давление в камере |
10–100 Торр (типичное значение) |
|
Скорость осаждения |
До 2000–3000 Å/мин (для объемного слоя) |
|
Равномерность толщины |
≤ ±2% (по пластине) |
|
Заполнение структур (gap fill) |
Оптимизировано для структур с высоким соотношением сторон (≥ 10:1) |
|
Система загрузки |
Автоматический манипулятор, однопластинная обработка |
|
Управление |
Промышленный ПК с программным обеспечением для контроля процесса |
|
Вакуумная система |
Турбомолекулярный и механический насосы |
|
Габариты (Ш × Г × В) |
В составе платформы Centura (типовые размеры кластера) |
|
Масса |
Зависит от конфигурации кластера |
|
Напряжение питания |
200–480 В, 3 фазы, 50/60 Гц |
|
Потребляемая мощность |
Примерно 8–12 кВт (модуль осаждения) |
Ключевые особенности
- Двухстадийный процесс осаждения вольфрама
Зародышевый слой (nucleation): Осаждение тонкого слоя вольфрама с использованием WF₆ и SiH₄. Обеспечивает адгезию и основу для последующего объемного осаждения.
Объемное осаждение (bulk deposition): Осаждение основного слоя вольфрама с использованием WF₆ и H₂. Обеспечивает высокую скорость осаждения и заполнение структур.
- Высокая заполняющая способность (gap fill)
Процесс оптимизирован для заполнения контактов и переходных отверстий с высоким соотношением сторон (до 10:1 и выше) без образования пустот (voids).
- Низкое удельное сопротивление
Осажденные вольфрамовые слои имеют низкое удельное сопротивление, что критически важно для уменьшения паразитных сопротивлений в металлизации.
Отличная однородность и воспроизводимость
Производство: США
JoomShopping Download & Support