МИНИ Магнетрон для ионного распыления


Производитель: Китай (208)

0 USD

Технические характеристики

Можно распылять позолоченные металлы: Au, Pt, Pd, Ir и т.д.

  1. Технология катодного магнетронного распыления: тонкое распыление, отсутствие термических повреждений
  2. Автоматизация сенсорного экрана с помощью одной кнопки: простота в использовании, экономия времени и лишних забот
  3. Модульная вращающаяся пробоотборная установка: 3D-распыление образцов

За последние десять лет благодаря оптимизации нитей и электронно-оптических трактов, особенно использованию составных нитей, разрешающая способность филаментной электронной микроскопии была дополнительно улучшена - с обычных тысяч до десятков тысяч раз и даже достигла уровня традиционной полевой эмиссионной электронной микроскопии начального уровня.

Соответственно, прибор для ионного распыления также был модернизирован с диодного до магнетронного. Обычно в пределах <20 000 раз в основном распыляется Au, а Pt в основном распыляется в диапазоне 20 000-1000 раз, что достаточно для выполнения большинства сценариев SEM с нитью накала.

Учитывая все больше и больше сценариев использования 3D-образцов (порошкообразных, гранулированных, пористых, волокнистых и других образцов), мы независимо разработали модульный вращающийся стол для образцов с цифровым дисплеем. Режим наклонного планетарного вращения делает нанесение пленки более равномерным, и может быть достигнуто трехмерное напыление с поворотом под углом, что решает проблему наматывания боковой части образца и особенно удобно для пробоподготовки методом SEM 3D порошковых, пористых и мембранных образцов.

Технические параметры

Вакуумный насос

Высокопроизводительный роторно-лопастной насос

Скорость откачки

≥4 м3

Абсолютный вакуум

<1Па

Рабочее давление воздуха

3-10Па

Время вакуума

<3 минуты

Вакуумметр

Вакуумметр Пирани

Полость

Стандартная полость из кварцевого стекла Ø120*120 мм

Этап выборки с цифровым дисплеем

Ø50 мм позволяет отклонять цифровую планетарную ступень отбора проб, регулируется скорость вращения: 10-60 об /мин, регулируется угол отклонения: ± 30 градусов, а расстояние до основания мишени составляет 40-60 мм

Мишень для магнетронного распыления

Размер мишени Ø50*0,1-1 мм

Источник питания для распыления

Источник питания для распыления постоянного тока постоянной мощности Макс. 20 Вт, Макс. 100 мА, 0-800В

Способ работы

Управление с сенсорным экраном, система управления обеспечивает функцию защиты от блокировки

Вес

~20 кг

Размер

~ 250 мм в ширину * 390 мм в глубину * 328 мм в высоту

 

Примеры применения:

NFPP- 

Пыльца- 

NFPP- 

 

 

Модель

Стоимость, доллары США

МИНИ магнетрон для ионного распыления

По запросу

Copyright MAXXmarketing GmbH
JoomShopping Download & Support