Ulvac IH-860SIC Ion Implanter


0 USD

Основные технические характеристики Ulvac IH-860SIC

Параметр

Значение

Модель

IH-860SIC

Тип

Ионный имплантер (высокотоковый)

Диаметр обрабатываемых пластин

150–200 мм (6–8 дюймов)

Энергия ионного пучка

До 200 кэВ (зависит от конфигурации)

Ток пучка

До 30 мА (для некоторых типов ионов)

Типы ионов

B⁺, P⁺, As⁺, BF₂⁺, другие (в зависимости от источника ионов)

Источник ионов

Фрименовского типа или Bernas (опционально)

Сканирование пучка

Электростатическое или механическое сканирование

Однородность легирования

≤ ±1% (по всей пластине)

Воспроизводимость дозы

≤ ±1%

Производительность

До 100–150 пластин/час (зависит от условий)

Система загрузки

Кассетная загрузка (автоматическая)

Управление

Промышленный ПК с программным обеспечением для контроля процесса

Вакуумная система

Турбомолекулярный и механический насосы

Предельный вакуум в камере обработки

~10⁻⁵–10⁻⁶ Па

Габариты (Ш × Г × В)

Примерно 2.5 × 2.5 × 2.8 м

Масса

Примерно 4000–5000 кг

 

Ключевые особенности

  • Высокотоковый ионный имплантер

Установка предназначена для высокодозного легирования полупроводниковых материалов, что делает её подходящей для формирования глубоких слоёв и высокопроводящих областей.

  • Гибкость по типам ионов

Поддерживает широкий спектр легирующих примесей (бор, фосфор, мышьяк, фтористый бор и др.) за счет использования универсального источника ионов.

  • Высокая однородность и воспроизводимость

Система сканирования ионного пучка обеспечивает высокую равномерность распределения примеси по поверхности пластины (≤ ±1%) и отличную повторяемость дозы, что критически важно для серийного производства.

  • Автоматизированная обработка пластин

Оснащена кассетной загрузкой, что позволяет автоматически обрабатывать партии пластин без участия оператора. 

           

Производство: Япония

Copyright MAXXmarketing GmbH
JoomShopping Download & Support