Машины для травления серия P5000 V1.0

Технические характеристики

Платформа P5000 представляет собой многополостную аппаратную платформу AMAT, которая может устанавливать 4 полости. Полости для травления - markⅡ, MxP, MxP +, Super-E и т.д., Которые могут использоваться для травления оксида кремния, нитрида кремния, поликремния, кремния и металлических материалов. Полости CVD могут использоваться для химического осаждения из паровой фазы оксида кремния, нитрида кремния, металлического вольфрама и других материалов. Платформенное оборудование P5000 занимает небольшую площадь и имеет высокий коэффициент использования пространства, что подходит для крупномасштабного производства.В то же время оборудование оснащено мощной радиочастотной системой и системой газоотвода, которая позволяет реализовать совместимое развитие различных процессов. Оборудование серии P5000 может быть оснащено системой электростатической адсорбции, а соответствующая конфигурация может быть выбрана в соответствии с различными технологическими требованиями; рынок оборудования имеет большое количество владельцев, и каналы поставок запасных частей идеальны.

Область применения
6-дюймовая, 8-дюймовая традиционная линия по производству полупроводников на основе кремния

Обновленные области применения
Процесс получения 4-дюймового и 6-дюймового карбида кремния, нитрида галлия и арсенида галлия

Улучшенные преимущества продукта

• Дополнительная сенсорная панель управления с жидкокристаллическим дисплеем
• Дополнительная система с двумя жесткими дисками
• Можно настроить различные конфигурации полостей для достижения многоцелевого использования в одной машине
• Модернизированный комплект трансмиссии и полостей в соответствии с технологией трансмиссии и поддержки прозрачных и тонких листов
• 4-дюймовая система электростатической адсорбции может быть настроена в соответствии с технологическим процессом получения ультратонких пластин
• Настраиваемые соответствующие решения для 4-дюймовых и 6-дюймовых пластин с насечкой
• Настраиваемые технологические решения для низкотемпературного CVD
  Обеспечивают множество новых технологических разработок и решений