Системы CVD-осаждения из паровой фазы широко используются в материаловедении и технике для получения различных функциональных тонких пленок, включая металлические пленки, оксидные пленки, нитридные пленки, углеродные нанотрубки и т.д. Они находят важное применение в полупроводниковой, оптоэлектронике, энергетике, биомедицине и других областях
Технические характеристики
CVD (химическое осаждение из паровой фазы) - это широко используемый метод нанесения тонких пленок, который включает взаимодействие газофазных реагентов с поверхностью подложки при высоких температурах с образованием тонкой пленки.
- Температура реакционной камеры: Обычно колеблется от нескольких сотен до нескольких тысяч градусов Цельсия, в зависимости от желаемой температуры реакции и материала.
- Реакционные газы: В зависимости от желаемого материала и структуры тонкой пленки могут использоваться различные реакционные газы, такие как аммиак, водород, кислород, диоксид кремния и т.д.
- Диапазон давлений: обычно от нескольких сотен до нескольких тысяч паскалей, в зависимости от реагентов и условий реакции.
- Время реакции: Время реакции может варьироваться от нескольких минут до нескольких часов, в зависимости от желаемой толщины и качества тонкой пленки.
- Материал подложки: Системы CVD могут использоваться с различными материалами подложки, такими как кремний, стекло, металлы и т.д.
- Области применения: Системы CVD-осаждения из паровой фазы широко используются в материаловедении и технике для получения различных функциональных тонких пленок, включая металлические пленки, оксидные пленки, нитридные пленки, углеродные нанотрубки и т.д. Они находят важное применение в полупроводниковой, оптоэлектронике, энергетике, биомедицине и других областях.
Технические параметры
|
Радиочастотный источник питания |
Частота сигнала |
13,56 МГц±0,005% |
|
|
Диапазон выходной мощности |
0 ~ 300 Вт |
||
|
Максимальная отраженная мощность |
100 Вт |
||
|
Отраженная мощность (при максимальной мощности) |
<3 Вт |
||
|
Стабильность мощности |
±0.1% |
||
|
Трубчатая печь |
Материал трубки |
Кварц высокой чистоты |
|
|
Наружный диаметр трубки |
100 мм |
||
|
Длина трубки |
1200 мм |
||
|
Длина камеры печи |
440 мм |
||
|
Длина зоны нагрева |
200 мм + 200 мм (две температурные зоны) |
||
|
Длина зоны постоянной температуры |
200 мм |
||
|
Постоянная рабочая температура |
Макс.1100 ℃ |
||
|
Точность контроля температуры |
±1℃ |
||
|
Режим контроля температуры |
30-сегментный программный контроль температуры |
||
|
Режим отображения |
ЖК-дисплей |
||
|
Способ герметизации |
вакуумный фланец из нержавеющей стали 304 |
||
|
Подача газа система |
Модель |
CY-6Z |
|
|
Номера каналов |
6 |
||
|
Измерительный блок |
Регулятор массового расхода |
||
|
Диапазон измерений |
Канал: 0~200 см/ч2 |
Примечания: Если требуются другие диапазоны, пожалуйста, укажите при заказе. В соответствии с конкретными требованиями заказчика, расходомер соответствующего типа газа и диапазона является дополнительным. |
|
|
Канал B: 0~200 см для канала CH4 |
|||
|
Канал C: 0~200 см для C2Ч4 |
|||
|
Канал C: 0~500 см для N2 |
|||
|
Канал D: 0~500 см для NH3 |
|||
|
Канал E: 0~500 см для Ar |
|||
|
Точность измерений |
±1,5%F.S |
||
|
Разница в рабочем давлении |
-0,15 МПа ~ 0,15 МПа |
||
|
Соединительная труба |
нержавеющая сталь 304 |
||
|
Газовый канал |
игольчатый клапан из нержавеющей стали 304 |
||
|
Спецификация интерфейса |
Соединительный наконечник 1/4 " для входа и выхода газа |
||
|
Вакуумная система |
Механический насос |
Двухступенчатый роторно-лопастной насос |
|
|
Скорость откачки |
1,1 л/С |
||
|
Измерение вакуума |
Датчик сопротивления |
||
|
Максимальный вакуум |
1,0E-1Pa |
||
|
Интерфейс накачки |
KF16 |
||
|
Направляющая скольжения |
Позволяет добиться скольжения печи с двумя температурными зонами, что обеспечивает быстрое повышение и понижение температуры. |
||
|
Источник питания |
220 В Переменного тока частотой 50 Гц |
||
|
Модель |
Стоимость, доллары США |
|
CVD vapor deposition system for including metal films |
По запросу |
JoomShopping Download & Support