Модель: Нисходящая печь для выращивания кристаллов фторида
Фторид выращивают нисходящим способом и используют резистивный нагрев графита. Весь процесс роста проводится в вакууме, процесс роста является очень нестабильным.
Технические характеристики
Внутренняя стенка полости зеркально отполирована для уменьшения прилипания газа, имеет возможность получения высокого вакуума и длительного поддержания давления;
Возможность реализации автоматического процесса;
Система автоматически записывает важные параметры процесса и может генерировать файлы Excel для удобства пользователя.
Технические параметры
|
Размер кристалла |
6 дюймов |
|
Метод нагрева |
Резистивный |
|
Размер |
Ш1400xГ1400xВ3400мм |
|
Общий вес |
Около 2,5 т |
|
Источник питания |
Емкость 60кВА Напряжение 3AC 380В, трехфазная пятипроводная система, 50Гц |
|
Охлаждающая вода |
Давление 0,35~0,45 Мпа Поток >150 л/мин |
|
Технологический газ (давление) |
≥0,2 МПа |
|
Сжатый воздух (давление) |
0,5~1,0 МПа |
|
Модель |
Стоимость, доллары США |
|
Нисходящая печь для выращивания кристаллов фторида |
Цена по запросу |
JoomShopping Download & Support