Основные технические характеристики Centura DCVD TEOS
|
Параметр |
Значение |
|
Модель |
Centura DCVD TEOS |
|
Тип |
Химическое осаждение из газовой фазы при пониженном давлении (SACVD) |
|
Диаметр обрабатываемых пластин |
150–200 мм (6–8 дюймов), опционально 300 мм |
|
Прекурсоры |
Тетраэтоксисилан (TEOS), кислород (O₂), гелий (He), азот (N₂) |
|
Осаждаемые материалы |
Диоксид кремния (SiO₂), легированные слои (PSG, BPSG) |
|
Температура осаждения |
400–700 °C (в зависимости от рецепта) |
|
Давление в камере |
50–300 Торр (субатмосферное) |
|
Скорость осаждения |
До 1000 Å/мин (зависит от рецепта) |
|
Равномерность толщины |
≤ ±2% (по пластине) |
|
Однородность по пластине |
≤ ±3% (типовое значение) |
|
Система загрузки |
Автоматический манипулятор, однопластинная обработка |
|
Управление |
Промышленный ПК с программным обеспечением для контроля процесса |
|
Вакуумная система |
Турбомолекулярный и механический насосы |
|
Габариты (Ш × Г × В) |
В составе платформы Centura (типовые размеры кластера) |
|
Масса |
Зависит от конфигурации кластера |
|
Напряжение питания |
200–480 В, 3 фазы, 50/60 Гц |
|
Потребляемая мощность |
Примерно 5–10 кВт (модуль осаждения) |
Ключевые особенности
- Субатмосферное осаждение (SACVD)
Процесс протекает при давлении ниже атмосферного (50–300 Торр), что обеспечивает улучшенную заполняющую способность (gap fill) и высокую однородность осаждаемых слоев.
- Тетраэтоксисилан (TEOS) позволяет осаждать высококачественные слои диоксида кремния с отличной воспроизводимостью и низким уровнем загрязнений.
Платформа Centura поддерживает одновременную работу нескольких технологических модулей, что позволяет обрабатывать до 80–100 пластин в час (зависит от рецепта и конфигурации).
- Процесс SACVD TEOS оптимизирован для заполнения узких зазоров (gap fill) в структурах с высоким соотношением сторон (high aspect ratio), что критически важно для современных технологических узлов.
- Модульная архитектура на платформе Centura
Установка интегрируется в кластерную систему Centura, позволяя объединять несколько технологических модулей (CVD, PVD, RTP, очистка) в едином вакуумном цикле, что снижает риск загрязнения и повышает производительность.
Производство: США
JoomShopping Download & Support