Система CY-in-line магнетронного распыления используется для нанесения металлической пленки (Al, Ag, Ni, Cu, Ti, Pd и т.д.) на поверхность кристаллического кремния и может осуществлять реактивное распыление. Он может выполнять процесс магнетронного распыления в условиях высокого и низкого вакуума, а также обладает способностью производить фотогальваническую пленку из кристаллического кремния различных размеров и крупногабаритную продукцию.
Технические характеристики
Система магнетронного распыления CY-in-line в основном состоит из камеры загрузки образца, камеры распыления, камеры вывода образца, механизма переноса субстрата, системы измерения давления и вакуума, системы газового контура, электронной системы управления и монтажного основания. Кроме того, после модернизации система будет представлять собой 5-камерную конструкцию: камера загрузки образца, 3 независимые камеры распыления, камера вывода образца; Добавлен источник радиочастотного питания для обеспечения функции подготовки диэлектрической пленки и получения непрерывного покрытия.
Технические параметры
|
Основная камера распыления |
Квадратная вакуумная камера, размер: 1000 × 700×350 мм |
|
|
Камера для загрузки образцов |
Цилиндрическаякамера со слоевым слоем, размер: 250 ×420 мм |
|
|
Вакуумная система |
Молекулярный насос, механический насос, задвижка |
|
|
Предельное давление |
Основная камера распыления |
≤8 × 10-5Па (после дегазации при выпекании) |
|
Загрузочная камера для образцов |
≤6,6 ×10-4Па (после дегазации при выпекании) |
|
|
Вакуум время восстановления |
Основная камера распыления |
Может достигать 6,6 × 10-4Па за 40 минут (система на короткое время подвергалась воздействию атмосферы и заполнялась сухим азотом для начала откачки) |
|
Загрузочная камера для образцов |
Может достигать 6,6 × 10 -3Па за 20 минут (система на короткое время подвергалась воздействию атмосферы и заполнялась сухим азотом для начала откачки) |
|
|
Компонент магнитной мишени |
Размер прямоугольной мишени: 450× 45 мм |
|
|
Расстояние между мишенью и образцом: регулируется на 80 мм |
||
|
Платформа для нагрева подложки |
Размер подложки |
Одновременно можно установить 4 образца размером 125×125 мм или 156 ×156 мм |
|
Температура нагрева |
Температура в помещении: 400℃±2℃, регулируется |
|
|
Система газового контура |
Регулятор массового расхода 3 контура |
|
|
Занимаемое пространство |
Основной блок |
2655 × 930 мм2 |
|
Электрический шкаф |
700 × 700 мм2 (два) |
|
|
Послепродажное обслуживание |
после доставки товара CYKY предоставляет один год бесплатного послепродажного обслуживания. Способ обслуживания ограничен удаленной технической поддержкой, такой как руководство по телефону, видеоинструкция, почтовая рассылка и отправка аксессуаров. Если заказчику необходимо направить кого-либо для оказания услуг "от двери до двери", заказчик оплачивает командировочные расходы и заработную плату обслуживающего персонала во время деловой поездки. |
|
|
Модель |
Стоимость, доллары США |
|
CY-in-line magnetron sputtering system
|
По запросу |
JoomShopping Download & Support