Устройство для нанесения покрытия магнетронным распылением постоянного тока с одной мишенью может использоваться для получения однослойных сегнетоэлектрических пленок, проводящих пленок, пленок из сплавов и т.д. По сравнению с аналогичным оборудованием этот прибор для нанесения покрытий методом магнетронного распыления с одной мишенью не только широко используется, но и обладает преимуществами небольшого размера и простоты эксплуатации. Это идеальное оборудование для лабораторного приготовления тонких пленок материалов и особенно подходит для лабораторных исследований твердых электролитов, OLED и т.д.
Технические характеристики
Установка для нанесения покрытий с помощью магнетрона постоянного тока с одной целью - это экономичное оборудование для нанесения покрытий с помощью магнетронного распыления, независимо исследованное и разработанное нашей компанией. Оно обладает характеристиками стандартизации, модульности и индивидуализации. Магнетронные мишени могут быть выбраны размером от 1 дюйма, 2 дюймов и 3 дюймов, и клиенты могут выбирать в зависимости от размера покрываемой подложки; Источником питания является мощный источник постоянного тока мощностью 1500 Вт, который может использоваться для нанесения покрытия напылением металла с высокой энергией. В соответствии с требованиями эксперимента, для нанесения покрытий на различные материалы также могут быть выбраны источники постоянного или радиочастотного питания других спецификаций.
Прибор для нанесения покрытия оснащен двумя высокоточными массовыми расходомерами, и заказчики могут настроить газовый тракт до четырех массовых расходомеров, если у них есть другие требования для удовлетворения требований сложной конструкции газовой среды; Прибор оснащен усовершенствованным турбомолекулярным насосом, входящим в стандартную комплектацию, а максимальный вакуум может достигать 1,0 E-5Pa. В то же время можно приобрести молекулярные насосы других типов. Газовый тракт молекулярного насоса контролируется несколькими электромагнитными клапанами, которые могут открывать полость для отбора проб без выключения насоса, что значительно повышает эффективность вашей работы. Данное изделие может быть оснащено встроенным промышленным управляющим компьютером для управления системой. Компьютерная программа может реализовать большинство функций, таких как управление группой вакуумных насосов и блоком питания для распыления, что может еще больше повысить эффективность вашего эксперимента.
Область применения одноцелевого магнетронного напыляющего устройства
Устройство для одноцелевого магнетронного распыления постоянного тока может использоваться для получения однослойных сегнетоэлектрических пленок, токопроводящих пленок, пленок из сплавов и т.д. По сравнению с аналогичным оборудованием этот одноцелевой магнетронный распылитель для нанесения покрытий не только широко используется, но и обладает преимуществами небольшого размера и простоты эксплуатации. Это идеальное оборудование для лабораторной подготовки тонких пленок материалов и особенно подходит для лабораторных исследований твердых электролитов, OLED и т.д.
Технические параметры одноцелевой машины для магнетронного распыления постоянного тока
|
Устройство для нанесения покрытия с помощью магнетрона постоянного тока с одной целью |
||
|
Этап отбора проб |
Размеры |
φ185 мм |
|
Диапазон нагрева |
Комнатная температура~500℃ |
|
|
Регулируемая скорость |
Регулируется от 1 до 20 оборотов в минуту |
|
|
магнитное управление цель пистолет |
Плоскость мишени |
Круглая плоская мишень |
|
Вакуум для распыления |
10Па~0,2 Па |
|
|
Диаметр мишени |
50~50,8 мм |
|
|
Толщина мишени |
2~5 мм |
|
|
Напряжение изоляции |
>2000 В |
|
|
Технические характеристики кабеля |
SL-16 |
|
|
Заданная температура головки |
≦65℃ |
|
|
реальный ноль Полость Тело |
Обработка внутренних стенок |
Электролитическая полировка |
|
Размер полости |
φ300 мм × 300 мм |
|
|
Материал полости |
нержавеющая сталь 304 |
|
|
Обзорное окно |
Кварцевое окнодиаметром φ100 мм |
|
|
Открытый метод |
Верхнее отверстие, вспомогательная опора цилиндра |
|
|
газ Тело управление система |
Управление потоком |
Массовый расходомер, диапазон 0~200 куб. см газа аргона |
|
Тип регулирующего клапана |
Электромагнитный клапан |
|
|
Статическое состояние регулирующего клапана |
Нормально закрытое |
|
|
Линейность измерения |
±1,5% F.S |
|
|
Повторяемость измерений |
±0,2% F.S |
|
|
Измерение времени отклика |
≤8 секунд(T95) |
|
|
Диапазон рабочих давлений |
0,3 МПа |
|
|
Давление в корпусе клапана |
3 МПа |
|
|
Рабочая температура |
(5~45)℃ |
|
|
Материал корпуса |
Нержавеющая сталь 316L |
|
|
Скорость утечки из корпуса клапана |
1 ×10-8 па.м3/с |
|
|
Соединения труб |
Компрессионный фитинг 1/4" |
|
|
Входной и выходной сигнал |
0~5 В |
|
|
Источник питания |
±15 В(±5%) (+15 В 50 мА, -15 В 200 мА) |
|
|
Габаритные размеры, мм |
130 (ширина) × 102 (высота) × 28 (толщина) |
|
|
Коммуникационный интерфейс |
Протокол RS485 MODBUS |
|
|
Источник питания постоянного тока |
Мощность |
500 Вт |
|
Выходное напряжение |
0~600 В |
|
|
Продолжительность синхронизации |
65000 секунд |
|
|
Время запуска |
1~10 секунд |
|
|
Измерение толщины пленки |
Требования к питанию |
Постоянный ток: 5 В(±10%), Максимальный ток 400 мА |
|
Разрешение |
±0,03 Гц (5-6 МГц), 0,0136 Å/Измерение (алюминий) |
|
|
Точность измерения |
±толщина 0,5% + 1 отсчет |
|
|
Период измерения |
100 мс~1 С/раз (можно установить) |
|
|
Диапазон измерений |
500 000 Å (алюминий) |
|
|
Частота кристалла |
6 МГц |
|
|
Коммуникационный интерфейс |
Последовательный интерфейс RS-232/485 |
|
|
Цифры на дисплее |
8-значный светодиодный дисплей |
|
|
Молекулярный насос |
Скорость откачки молекулярным насосом |
80Л/С |
|
Номинальная скорость |
65000 об/мин |
|
|
Значение вибрации |
≦0,1 мкм |
|
|
Время запуска |
≦4,5 мин |
|
|
Время простоя |
<7 мин |
|
|
Способ охлаждения |
Воздушное охлаждение |
|
|
Температура охлаждающей воды |
≦37℃ |
|
|
Расход охлаждающей воды |
1Л/мин |
|
|
Направление установки |
Вертикальное положение ±5° |
|
|
Всасывающее отверстие |
150CF |
|
|
Выпускной патрубок |
KF40 |
|
|
Передний насос |
Скорость откачки |
1,1 Л/с (VRD-4) |
|
Максимальный вакуум |
5 ×10-2Pa |
|
|
Источник питания |
Переменный ток: 220 В/50 Гц |
|
|
Мощность |
400 Вт |
|
|
Шум |
≦56 дБ |
|
|
Всасывающее отверстие |
KF40 |
|
|
Выпускной патрубок |
KF25 |
|
|
Выпускной клапан |
На вакуумной камере установлен пневматический клапан выпуска воздуха с электронным управлением |
|
|
Максимальный вакуум во всей машине |
≦5×10-4Pa |
|
|
Скорость наддува вакуумной камеры |
≦2,5 Па/ч |
|
|
Программная система |
1 комплект программного обеспечения для мониторинга и управления |
|
|
Испытательная мишень |
2 медные мишени диаметром 2 дюйма и толщиной 3 мм |
|
|
Модель |
Стоимость, доллары США |
|
Dual-target DC magnetron sputtering coater
|
По запросу |
JoomShopping Download & Support