Высокотемпературная вакуумная бескислородная печь

Технические характеристики

Введение в применение: широко используется в научных исследованиях и производственных подразделениях, таких как авиация, аэрокосмическая, нефтяная, химическая промышленность, военная промышленность, судостроение, электроника, связь и т.д., в основном используется для отверждения клея BPO / клея PI / клея BCB, IC (вафли, CMOS, Bumping, TSV, MEMS, распознавание отпечатков пальцев), FPD, высокоточные электронные компоненты, электронные керамические материалы, испытания на сушку без пыли, сушку и старение в высокотемпературных чистых и бескислородных средах для электротехнических изделий, материалов, запасных частей, и т.д. Основные характеристики: экономит азот (30 л/мин), обладает характеристиками быстрого нагрева и энергосбережения, уникальная система подачи и вытяжки воздуха для обеспечения равномерной температуры в топочной камере, американский металлический фильтр для обеспечения требований к чистоте.

Категория: Полупроводниковое технологическое оборудование.

Технические параметры