Высокотемпературная анаэробная печь/ печь для антиокислительного отверждения/ высокотемпературная анаэробная печь для отверждения/ высокотемпературная анаэробная печь для отверждения

Технические характеристики

Введение в применение: в основном отверждение клея BPO/PI/BCB, IC (вафля, CMOS, Bumping, TSV, MEMS, идентификация отпечатков пальцев), FPD, высокоточные электронные компоненты, сушка электронных керамических материалов без пыли, электротехническая продукция, Испытания на сушку и старение материалов, запчастей и т.п. в высокотемпературных чистых и бескислородных средах.

Основные характеристики: Корпус коробки изготовлен из цельнокерамической изоляции, которая обладает характеристиками быстрого нагрева и энергосбережения. Уникальная система подачи и вытяжки воздуха обеспечивает равномерную температуру в камере печи. Фильтр из стекловолокна на отверстии всасывания воздуха. обеспечивает требования чистоты.

Технические индикаторы и базовая конфигурация:

• Рабочая температура: RT+10～400℃, максимальная температура: 450℃;
• Время охлаждения пустой печи: 375 ℃--80 ℃, время охлаждения 1,5-3,5 часа (с использованием водяного и воздушного охлаждения);
• Однородность температуры: ±2%℃ (платформа 400℃)

Содержание кислорода (анализатор кислорода):

• Содержание кислорода в высокотемпературном состоянии: ≤ 50 ppm + содержание кислорода в источнике газа;
• Содержание кислорода в низкотемпературном состоянии: ≤100 ppm + содержание кислорода в источнике газа.

Вывод событий:

• Оснащенный PLC, он может осуществлять многоуровневый выходной контроль атмосферы, воды других переключателей и сигналов тревоги;
• Управление: Верхняя и нижняя камеры печи могут иметь отдельный контроль температуры, вентиляцию и систему сигнализации;
• Можно принять индивидуальный корпус или корпус с несколькими полостями.

Модель продукта:

Категория: Полупроводниковое технологическое оборудование.