Магнетронная установка для ионного распыления ISC150


Производитель: Китай (208)

0 USD

Технические характеристики

Можно распылять позолоченные металлы: Au, Pt, Pd, Ir и т.д.

  1. Технология катодного магнетронного распыления: тонкое распыление, отсутствие термических повреждений
  2. Больших полости (диаметр 150 мм) для распыления под постоянным давлением
  3. Автоматизация сенсорного экрана с помощью одной клавиши: простота в использовании, экономия времени и лишних забот

Полевая эмиссионная сканирующая электронная микроскопия имеет более высокое разрешение, чем электронная микроскопия с нитью накала, и ее увеличение может быть увеличено порядка 100 000 раз. Следовательно, предъявляются более высокие требования к степени детализации инструментов для распыления золота. Мелкие частицы не только не влияют на характеристики образца, но и при удалении заряда и облицовке футеровкой. Степень улучшения увеличивается.

Традиционным решением для подготовки образцов для полевой эмиссионной электронной микроскопии методом РЭМ является распыление Pt-металла, поскольку Размер частиц Pt составляет всего 2-3 нм, а небольшой Размер частиц способствует более реалистичной морфологии образца. Прибор для ионного распыления ISC150 может быть стандартно оснащен Pt-мишенью для распыления образцов методом полевой эмиссионной сканирующей электронной микроскопии, что не только способствует уменьшению заряда, но и не маскирует истинную морфологию образца.

Технические параметры

Вакуумный насос

Высокопроизводительный роторно-лопастной насос

Скорость откачки

≥4 м3

Абсолютный вакуум

<1Па

Рабочее давление воздуха

4-10Па, постоянный контроль напряжения

Время вакуума

<3-5Мин

Вакуумметр

Импортный вакуумметр марки Pirani

Полость

Стандартная полость из кварцевого стекла Ø150*120 мм

Этап выборки с цифровым дисплеем

Ø75 мм позволяет отклонять цифровую планетарную ступень отбора проб, регулируется скорость вращения: 10-60 об / мин, регулируется угол отклонения: ± 40 градусов, регулируется расстояние до основания мишени 40-60 мм.

Мишень для магнетронного распыления

Размер мишени Ø50*0,1-1 мм

Источник питания для распыления

Источник питания для распыления постоянного тока постоянной мощности Макс.20 Вт, Макс.100 мА, 0-800В

Способ работы

Управление с сенсорным экраном, система управления обеспечивает функцию защиты от блокировки

Вес

~20 кг

Размер

~ 400 мм в ширину * 337 мм в глубину * 346 мм в высоту

 

Примеры применения:

Образцы водорослей- 

Порошок-предшественник тройной литиевой батареи- 

 

 

Модель

Стоимость, доллары США

Магнетронная установка ISC150

По запросу

Copyright MAXXmarketing GmbH
JoomShopping Download & Support