Установка плазменно-химического осаждения из газовой фазы M82200-9/UM тип PECVD

Категория: PECVD.

Технические характеристики

Он используется для формирования одной или нескольких антиотражающих пленок наноуровня (таких как антиотражающая пленка Si3N4, пассивационная пленка SiO2) на поверхности материалов подложки батареи из кристаллического кремния для уменьшения отражения света на поверхности кремниевой пластины и улучшить способность поглощения света, тем самым увеличивая эффективность фотоэлектрического преобразования фотоэлектрических элементов. Выращивание пленки оксида кремния на поверхности антиотражающей пленки Si3N4 может эффективно защитить от проникновения ионов металлов и улучшить характеристики защиты от ПИД компонента.

Основные параметры.

1. Типы пленкообразования.

 Диоксид кремния, нитрид кремния;

2. Качество монтажа и формирования пленки.

 Размер и количество загрузки пленки: квадратная пленка 125х125 мм, 352 шт./туба/партия, квадратная пленка 156х156 мм, 308 шт./туба/партия;

Время процесса: ≤45 минут/партия (толщина пленки 80 нм);

Равномерность формирования пленки: внутричиповая ≤ 4%, между чипами ≤ 4%, между партиями ≤ 4% (толщина пленки 80 нм, показатель преломления более 2,04);

3. Система контроля температуры

Эффективный внутренний диаметр печи: Ф475мм (наружный диаметр кварцевой трубки Ф450мм);

 Диапазон контроля температуры: 300 ~ 500 ℃;

 Длина и точность зоны постоянной температуры: ±2 ℃/1370 мм (500 ℃);

Время нагрева: RT→450℃≤40мин;

4. Вакуумная система

Предельный вакуум системы: 3Па;

Диапазон и точность рабочего давления: 50 Па～300±5Па (управление с обратной связью);

Время восстановления вакуума: AP→10 Па<5 мин;

 Скорость утечки воздуха в системе: скорость повышения давления после остановки насоса и закрытия клапана: <3 Па/мин;

5. Пневматическая система

Конфигурация газовой системы: 4-ходовое управление MFC (SiH4, NH3, N2);

Точность управления MFC: ≤±1%FS;

Герметичность: скорость утечки ≤1×10-7Па.м3/с;

Характеристики труб и методы соединения: электрохимическая внутренняя полированная труба 316L, полная сварка VCR;

6. Метод автоматического управления.

Высокопроизводительные промышленные компьютеры автоматически управляют процессом, контролируют параметры процесса и процессы в режиме реального времени, имеют функции диагностики неисправностей, сигнализации и защиты;

7. Функция сигнализации и блокировки

Функции сигнализации и подсказки: оборудование имеет звуковые и визуальные напоминания о состоянии процесса, а также о неисправности компьютера, сигнализацию о перегреве и понижении температуры, отклонение MFC, отклонение давления в реакционной камере, сигнализацию о экстремальном перегреве и функции защиты;

Функция блокировки: имеет функцию блокировки механизма дверцы печи на месте, давления воздуха, азота, давления потока воды и блокировки неправильной работы специальных газовых клапанов;

8. Мощность оборудования

Пиковая мощность ≤280 кВА, мощность изоляции около 100 кВА.

Ключевая особенность.

1. Большая производственная мощность и более низкая стоимость одного чипа.

• Реакционная камера PECVD самого большого в отрасли диаметра (Ф450 мм) с большей производственной мощностью, более низкой стоимостью одной пластины и лучшими технологическими характеристиками. Производственная мощность одного 4-трубного оборудования.
• Производственная мощность 125 кремниевых пластин может достигать 1800 штук в час (352 штуки в партии на трубку), а производственная мощность 156 кремниевых пластин может достигать 1600 штук в час (308 штук в партии на трубку);

2. Высокая степень автоматизации.

• Полностью автоматическая система загрузки и разгрузки, полностью автоматический процесс одним щелчком мыши и повышенная степень автоматизации повышают повторяемость и стабильность продукта;

3. Высокоточный контроль температуры.

• Он использует независимо разработанный, спроектированный и изготовленный корпус печи сверхбольшого диаметра и высокоточную пятиступенчатую двухконтурную систему контроля температуры с быстрой скоростью восстановления температуры и точностью управления.
• Лидирующая позиция внутри страны;

4. Ведущая в отрасли новая система контроля давления.

• Благодаря использованию независимо разработанной новой полностью автоматической технологии прецизионного регулирования давления с обратной связью точность регулирования давления и возможность реагирования в реальном времени значительно улучшаются на 30%.
• Система более эффективна, стабильность улучшена, а атмосфера в реакционной камере более однородна.