Система напыления PVD AlN серии iTops

Система распыления AlN iTops PVD в основном используется для процессов осаждения AlN диаметром 2, 4 и 6 дюймов. Эта машина представляет собой оборудование с одной технологической камерой, оснащенное передаточной камерой и камерой охлаждения. Преимущества оборудования AlN заключаются в небольшой занимаемой площади, простой конструкции, гибкости в эксплуатации, удобном обслуживании и дешевизне расходных материалов; оно имеет те же технологические возможности, что и международные конкуренты.

Технические характеристики

• Сверхвысокая теплопроизводительность, точный контроль температуры, отличная вакуумная способность.
• Высококачественная пленка из нитрида алюминия с кристаллами и хорошей однородностью толщины пленки.
• Небольшая занимаемая площадь, простая конструкция, гибкость в эксплуатации, простота обслуживания.
• Стабильная работа оборудования и низкие эксплуатационные расходы.

Размер пластины: 2, 4, 6 дюймов.

Применимые материалы: нитрид алюминия.

Применимый процесс: напыление буферного слоя из нитрида алюминия.

Применимая область применения: полупроводниковое освещение.