Eris E120R 8-дюймовая система кремниевой эпитаксии с одной пластиной пониженного давления

Eris E120R в основном используется для проведения различных специальных процессов, таких как эпитаксия скрытого слоя, селективная эпитаксия и поликристаллическая эпитаксия. Оборудование в основном состоит из модуля системы передачи, модуля технологической камеры, модуля контроля давления и т.д. Точное давление, профессионально разработанное поле воздушного потока и температурное поле обеспечивают хорошие технологические характеристики эпитаксиальных пластин и качество формирования пленки. Модуль переноса совместим с пластинами различных размеров и отвечает различным технологическим требованиям.

Технические характеристики

• Единая технологическая полость, небольшие габариты, простота в эксплуатации.
• Профессиональный дизайн поля воздушного потока и температурного поля для обеспечения хорошей производительности процесса.
• Высокоточная система контроля давления для обеспечения качества пленкообразования.
• Дружественное взаимодействие человека и компьютера и комплексная система безопасности обеспечивают стабильную, безопасную и эффективную систему.

Размер пластины: 6/8 дюймов.

Применимые материалы: кремний.

Применимый процесс: эпитаксия с заглубленным слоем, селективная эпитаксия, поликристаллическая эпитаксия.

Применимая область применения: интегральные схемы, силовые полупроводники, материалы подложек, области научных исследований.