Печь LPCVD (химическое осаждение из газовой фазы при низком давлении) PYRO-H

Приложения

SiO2, Si3N4, поликремний, легированный (N+, P+) кремнийосаждение
плёнка нитрида с низким напряжением
осаждение LTO/HTO
влажное/сухое окисление
диффузия (N+, P+), внедрение
отжиг

Размер подложки

От 4 до макс. 8-дюймовой пластины

Выход продукта

Макс. 50 пластин за раз

Температура нагревателя

Макс. 1250 ℃

Зона управления нагревателем

От 1-й до 5-й зоны

Загрузочная станция

Автоматическая загрузка/выгрузка с помощью LM guide

Предельное давление

< 5,0E-3 Торр

Вакуумный насос

Сухой насос или роторный насос

Контроль

Управление с ПК (программное обеспечение UPRO)

Модель

Стоимость, доллары США

Печь LPCVD (химическое осаждение из газовой фазы при низком давлении) PYRO-Н

 По запросу