Машина для вакуумной плазменной очистки подходит для производства печатных плат, полупроводниковых микросхем, силикона, пластика, полимеров, автомобильной электронной промышленности, авиационной промышленности и т.д. Производство печатных плат: активация поверхности высокочастотных плат, очистка поверхности многослойных плат, удаление пятен от сверления, очистка поверхности мягких плат и жестких гибких плат, удаление пятен от сверления, активация мягких плат перед армированием. Область применения полупроводниковых микросхем: процессы COB, COG, COF, ACF, используемые для очистки перед склеиванием проводов и сваркой; область применения: силикагель, пластик, полимер: придание шероховатости поверхности, травление и активация силикагеля, пластика и полимера.
Технические характеристики
Большое пространство для обработки, увеличение производительности обработки, внедрение системы управления PLC + touch screen, точное управление работой оборудования;
Емкость и количество слоев полости оборудования могут быть настроены в соответствии с требованиями заказчика для удовлетворения потребностей заказчика; затраты на техническое обслуживание и ремонт низкие, что удобно для контроля затрат заказчика;
Высокая точность, быстрая реакция, хорошая управляемость и совместимость, совершенные функции и профессиональная техническая поддержка.
Применение
Вакуумно-плазменная машина для очистки подходит для производства печатных плат, полупроводниковых микросхем, силикона, пластика, полимеров, автомобильной электронной промышленности, авиационной промышленности и т.д. Производство печатных плат: активация поверхности высокочастотных плат, очистка поверхности многослойных плат, удаление пятен от сверления, очистка поверхности мягких плат и плат с жестким изгибом, удаление пятен от сверления, активация мягких плат перед армированием. Область применения полупроводниковых ИС: процесс COB, COG, COF, ACF, используемый для очистки перед склеиванием проволокой и сваркой; область применения силикагеля, пластика, полимера: придание шероховатости поверхности, травление и активация силикагеля, пластика и полимера.
Технические параметры
|
Наименование |
Система вакуумной плазменной обработки |
|
Модель |
CRF-VPO-8L-S |
|
Система управления |
ПЛК + сенсорный экран |
|
Источник питания |
380 В /перем. тока, 50/60 Гц, 3 кВт |
|
Радиочастотная Мощность |
600 Вт / 13,56 МГц |
|
Объем |
80 л (опция) |
|
Многослойный электрод |
8 (Опция) |
|
Область |
400 (Л) * 300 (Вт) (опция) |
|
Газ |
Два варианта рабочего газа: Ar, N2, H2, CF4, O2 |
|
Внешний вид |
Конструкция из листового металла |
|
Модель |
Стоимость, доллары США |
|
CRF-VPO-8L-S |
По запросу |
JoomShopping Download & Support