Основные технические характеристики KLA-Tencor FLX-2320
|
Параметр |
Значение |
|
Модель |
FLX-2320 |
|
Тип |
Лазерный сканирующий измеритель кривизны подложек и напряжений в пленках |
|
Диаметр обрабатываемых пластин |
150–200 мм (6–8 дюймов), опционально до 300 мм |
|
Метод измерения |
Лазерное сканирование поверхности с измерением угла наклона (оптическая рычажная система) |
|
Источник лазера |
Полупроводниковый лазер (длина волны 670 нм или 780 нм) |
|
Диапазон измерения кривизны |
±0.001 м⁻¹ – ±1000 м⁻¹ (в зависимости от конфигурации) |
|
Чувствительность изменения кривизны |
До 1 × 10⁻⁶ м⁻¹ (0.001 м⁻¹) |
|
Диапазон измерения напряжений |
От 1 МПа до нескольких ГПа (зависит от толщины подложки и пленки) |
|
Температурный диапазон |
Комнатная температура (стандартно); опционально с нагревательным столиком до 900°C для in-situ измерения напряжений в процессе термического цикла |
|
Скорость сканирования |
Регулируемая, до 20 мм/с |
|
Разрешение по координатам |
До 0.1 мм |
|
Система загрузки пластин |
Ручная загрузка (опционально автоматическая кассетная загрузка) |
|
Управление |
Промышленный ПК с программным обеспечением KLA для управления измерением, анализа данных, построения 2D/3D-карт кривизны и напряжений |
|
Габариты (Ш × Г × В) |
Примерно 1.0 × 0.8 × 0.5 м |
|
Масса |
Примерно 80–100 кг |
|
Напряжение питания |
100–240 В, 1 фаза, 50/60 Гц |
|
Потребляемая мощность |
Примерно 0.3–0.5 кВт |
|
Применение |
Описание |
|
Полупроводниковая промышленность |
Контроль напряжений в диэлектрических слоях (SiO₂, Si₃N₄), металлических пленках (Al, Cu, W, TiN), высоко-κ диэлектриках, после CMP, осаждения и отжига |
|
Производство дисплеев |
Измерение напряжений в прозрачных проводящих слоях (ITO), изоляторах и пассивирующих покрытиях на стекле |
|
Микроэлектромеханические системы (МЭМС) |
Контроль напряжений в структурных слоях для обеспечения надежности подвижных элементов (мембраны, балки, актуаторы) |
|
Солнечная энергетика |
Изучение напряжений в тонкопленочных солнечных элементах (a-Si, CdTe, CIGS, перовскиты) для повышения стабильности |
|
Материаловедение |
Исследование механических свойств тонких пленок, изучение процессов релаксации напряжений при термоциклировании |
Производство: США
JoomShopping Download & Support