Технические характеристики
Он в основном используется для юстировки и экспонирования в процессе производства интегральных схем малого и среднего размера и полупроводниковых компонентов. Этот продукт прост в эксплуатации, отличается высокой стабильностью, хорошей повторяемостью и имеет высокое соотношение цены и качества, что может широко использоваться в научных исследованиях и производстве.
Машина в основном используется для выравнивания и экспонирования в процессе малых и средних ИС. Он прост в эксплуатации, обладает высокой стабильностью, хорошей повторяемостью, может широко использоваться в научных исследованиях и производстве.
Технические параметры
|
Параметры |
Технические индикаторы |
Параметры |
Технический индекс |
|
Применимый размер подложки |
Макс. φ4(φ100 мм) |
Размер субстрата |
Макс. φ4(φ100 мм) |
|
Применяется к размеру маски |
макс. 5(125 мм×125 мм) |
Размер маски |
макс. 5(125 мм×125 мм) |
|
Подложка отделяется от прицельной сетки |
0~0,05 мм |
Разделительный зазор между подложкой и маской |
0~0,05 мм |
|
Точность выравнивания |
±1 мкм |
Точность выравнивания |
±1 мкм |
|
Разрешение экспозиции |
1,5 мкм (вакуумный контакт) |
Разрешение экспозиции |
1,5 мкм (вакуумный контакт) |
|
Модель |
Стоимость, доллары США |
|
Экспонирующий аппарат BG-401A |
По запросу |
JoomShopping Download & Support