Установка плазменной очистки SAP013T / SAP013X

Name: Установка плазменной очистки SAP013T / SAP013X
Availability: InStock

Производитель: Creating Nano Technologies, Тайвань

0 USD

Описание производства

Точечная AP-плазма SAP013T / 013X была разработана с использованием трубчатых электродов, которые могут работать на более высокой мощности (до 1100 Вт) при разумном сроке службы деталей. Высокая выходная мощность повышает эффективность плазменной обработки и сокращает время обработки.

Технические характеристики

Простой дизайн и простота в эксплуатации
Поддерживает недорогие газы типа воздуха (CDA) и N2
Безопасная эксплуатация и техническое обслуживание
Предназначена для работы без вакуумной камеры

Уникальные функциональные возможности

Электрод имеет длительный срок службы и низкие затраты на расходные материалы.

Сопутствующие решения

Электроды для жидкокристаллических панелей
Электроды из FPC
Электрод печатной платы BGA
Светодиодный электрод
Печатная плата
Очистка металлических деталей
Обработка картона перед склеиванием
Держатель автомобильного фонаря очистите перед приклеиванием
Все виды предварительной калибровки или окраски
Предварительная обработка печати и покрытия
Пластиковый лоток с клеевым покрытием для предварительной обработки
Сенсорная панель
Автомобильные запчасти

Технические параметры

Пункт	Спецификация	Примечание
Главный блок управления
Габариты (Ш×Г×В)	484мм x 704мм x 134мм	Подробные характеристики, пожалуйста, свяжитесь с нами
Вес	20кг
Требования к питанию	Однофазный AC220V, 60Гц, 3 провода, 15A	Сопротивление заземления <0.5Ω
Мощность плазменного выхода	600-800Вт	Доступная мощность зависит от фактических условий
Рабочий газ	GN2, CDA	В зависимости от условий и образцов
Разъем для газа	5x8мм Разъем	Подключение к газовому источнику
Расход газа	35-40 л/мин	В зависимости от условий и образцов
Требования к давлению газа	5±0.5кг/см2
Требования к пространству	Хорошо проветриваемая среда менее 30℃ является обязательным условием. Оставьте пространство вокруг 150мм или более для отвода тепла.
Блок головки плазмы
Габариты (Φ×В)	38мм x 220мм	Подробные характеристики, пожалуйста, свяжитесь с нами
Вес	< 2кг
Длина кабеля от главного контроллера до головки плазмы	2м Стандартная длина
Минимальный радиус изгиба	120мм
Прочее
Эффективный диапазон очистки	5-15мм	В зависимости от условий и образцов
Скорость обработки	50-300 мм/сек	В зависимости от условий и образцов
Расстояние обработки (зазор)	5-20мм	В зависимости от условий и образцов
Предел вкл/выкл	ВКЛ: 8с, ВЫКЛ: 4с	Слишком короткое время ВКЛ/ВЫКЛ может легко привести к поломке оборудования

Пункт	Спецификация	Примечание
Главный блок управления
Габариты (Ш×Г×В)	484мм x 704мм x 134мм	Подробные характеристики, пожалуйста, свяжитесь с нами
Вес	20кг
Требования к питанию	Однофазный AC220V, 50-60Гц, 3 провода, 15A	Сопротивление заземления <0.5Ω
Мощность плазменного выхода	1000-1200Вт	Доступная мощность зависит от фактических условий
Рабочий газ	GN2, CDA	В зависимости от условий и образцов
Разъем для газа	5x8мм Разъем	Подключение к газовому источнику
Расход газа	45±5л/мин	В зависимости от условий и образцов
Требования к давлению газа	5±0.7кг/см2
Требования к пространству	Хорошо проветриваемая среда менее 30℃ является обязательным условием. Оставьте пространство вокруг 150мм или более для отвода тепла.
Блок головки плазмы
Габариты (Φ×В)	54мм x 289мм	Подробные характеристики, пожалуйста, свяжитесь с нами
Вес	< 2кг
Длина кабеля от главного контроллера до головки плазмы	2м Стандартная длина
Минимальный радиус изгиба	120мм
Прочее
Эффективный диапазон очистки	5-15мм	В зависимости от условий и образцов
Скорость обработки	50-300 мм/сек	В зависимости от условий и образцов
Расстояние обработки (зазор)	5-20мм	В зависимости от условий и образцов
Предел вкл/выкл	ВКЛ: 8с, ВЫКЛ: 4с	Слишком короткое время ВКЛ/ВЫКЛ может легко привести к поломке оборудования

Модель	Стоимость, доллары США
Плазма атмосферного давления SAP013T / SAP013X	По запросу

Сопутствующие товары (0)
Отзывов (0)