Краткое введение в технологию химического осаждения алмаза из паровой фазы горячей проволокой (HFCVD)

Химическое осаждение из паровой фазы с использованием горячих нитей (HFCVD) обладает многими преимуществами, такими как развитая технология и простое оборудование. Это один из наиболее широко используемых методов получения тонких алмазных пленок в промышленности.

Технические характеристики

Химическое осаждение алмазов из паровой фазы горячей нитью (HFCVD) обладает многими преимуществами, такими как отработанная технология и простое оборудование. Это один из наиболее широко используемых методов получения тонких пленок алмазов в промышленности. Предназначен для синтеза наноалмазных покрытий, алмазных пленок CVD, микрокристаллических алмазных покрытий CVD, графена, углеродных нанотрубок (УНТ) и различных других тонкопленочных покрытий. Будучи самым твердым веществом из всех известных материалов, алмаз также обладает высокой теплопроводностью, высоким модулем упругости, хорошей износостойкостью, коррозионной стойкостью, низким коэффициентом трения и химической стабильностью, а также является отличным материалом для резки. Оборудование включает в себя реакционную камеру, систему поддержки, систему водоснабжения, газовую систему и систему автоматического управления. Оборудование имеет компактную конструкцию и разумную компоновку. После многолетних исследований и разработок оборудования командой инженеров, неоднократных обсуждений, множества экспериментов в сочетании с системой автоматизированного проектирования были проверены бесчисленное количество раз. Оборудование обладает отличными характеристиками осаждения и надежной безопасностью. Этот продукт представляет собой превосходное устройство, сочетающее в себе энергосбережение, надежность, удобство и интеллектуальность.

• Этот продукт представляет собой двухслойную полостную конструкцию из нержавеющей стали с компактной и разумной структурой;
• Этот продукт разделен на две части: верхнюю ступень и нижнюю ступень. В дополнение к поддержке реакционной камеры, нижняя ступень также используется для размещения газового клапана, водопровода и различных компонентов управления. Расположите на стенде дисплейные панели и устройства питания таким образом, чтобы разумно защитить цепь от помех;
• Этот продукт полностью рассеивает расположение каналов охлаждающей воды (верхняя крышка полости, верхний и нижний слои корпуса полости и нижняя пластина, а также эластичное устройство для горячей проволоки и т.д.). Водяные насосы, водопроводные трубы, расходомеры интеллектуального мониторинга, коллекторы для воды и т.д. - все это системы замкнутой циркуляции.
• Комбинация газового контура этого продукта в основном состоит из системы подачи технологического газа и вакуумной системы, разумного распределения газопроводов, эффективного использования доступного пространства, мониторинга в режиме реального времени и точного регулирования расхода и давления газа.
• В данном изделии используется двухступенчатый вакуумный насос для стружки, а скорость откачки стабильна на уровне 65 м3 / ч. Максимальное полное давление абсолютного вакуума составляет 0,5 Па, а уровень защиты - IP54.

Технические параметры