Тепловой испаритель EasyDEP-N

Применение

Нанесение наноструктур (нанесение наноструктур с трёхмерной сетью соединений)

Материалы для нанесения

Металл: Ag, Al, Au, Cu, Pd, Ti Оксид: SnO2, ZnO, WO3

Размер подложки

Макс. 6-дюймовая пластина

Выход продукта

1 пластина/запуск6 дюймов

Вращение подложки

От 0 до 20 об/мин

Количество лодок

От 1 до 2 шт.

Тепловая мощность

От 1,5 до 3 кВт

Регулятор толщины

Одиночный кварцевый датчик и контроллер

Предельное давление

< 5,0E-7 Торр (абсолютное давление)

Автоматический контроль давления

Манометр Baratron + дроссельная заслонка

Опция

Распылитель

Контроль

Управление с ПК (программное обеспечение UPRO)

Модель

Стоимость, доллары США

Тепловой испаритель  EasyDEP-N

 По запросу