Основные технические характеристики Novellus Concept 2 Sequel
|
Параметр |
Описание |
|
Технология |
Химическое осаждение из газовой фазы (CVD) — вольфрам (W) и родственные материалы |
|
Платформа |
Кластерная платформа Novellus Concept 2 (несколько технологических модулей, шлюзовые камеры, центральный робот) |
|
Процесс |
Осаждение зародышевого слоя вольфрама + объемное осаждение вольфрама с использованием WF₆ (гексафторид вольфрама) и H₂ или SiH₄ |
|
Размер пластин |
150 мм (6 дюймов), 200 мм (8 дюймов), некоторые модели поддерживают 300 мм (12 дюймов) |
|
Применение |
Вольфрамовые контакты и переходные отверстия, формирование линий слов (wordline), слои металлизации |
|
Производительность |
До 40–60 пластин в час (зависит от рецепта и количества модулей) |
|
Занимаемая площадь |
Интегрированная многокамерная кластерная система; типовые размеры: ~3 × 3 × 2.5 м |
Типовые конфигурации
Concept 2 Sequel часто конфигурируется как двухкамерная или трехкамерная система, что позволяет обрабатывать пластины параллельно и увеличивать производительность.
Типовые конфигурации включают:
|
Конфигурация |
Количество модулей осаждения |
Назначение |
|
Двухкамерная |
2 модуля W-CVD |
Средняя производительность, компактная компоновка |
|
Трехкамерная |
3 модуля W-CVD |
Высокая производительность, оптимизация загрузки |
|
Смешанная |
W-CVD + другие модули (например, Ti/TiN) |
Интегрированные процессы (барьерный слой + вольфрам) |
Производство: США
JoomShopping Download & Support