Мишень для распыления хрома (Cr) высокой чистоты для нанесения тонких плёнок методом PVD напыления

Хром — твёрдый серебристый металл с голубоватым оттенком. Чистый хром отличается высокой пластичностью и твёрдостью. Его плотность составляет 7,20 г/см³, температура плавления — 1907 °C, температура кипения — 2671 °C. Хром обладает чрезвычайно высокой коррозионной стойкостью и низкой скоростью окисления даже при высоких температурах. Металл хром получают алюмотермическим способом из оксида хрома либо электролитическим методом с использованием феррохрома или хромовой кислоты.
Мишени для распыления хрома высокой чистоты могут использоваться для широкого спектра задач. Покрытия, нанесённые с помощью хром‑мишеней, отличаются высокой прочностью и износостойкостью.
Мишень для распыления хрома используется во многих вакуумных технологиях, таких как нанесение покрытий на автомобильное стекло, производство фотоэлектрических элементов, аккумуляторов, топливных элементов, а также для создания декоративных и коррозионно‑стойких покрытий. Мишень для распыления хрома применяется при производстве CD‑ROM, для декоративного нанесения тонких плёнок, в плоских дисплеях, функциональных покрытиях, а также в других областях индустрии хранения оптической информации и т. д.
Мишени для распыления хрома имеют чёткую внешнюю маркировку для обеспечения эффективной идентификации и контроля качества. Принимаются все меры предосторожности, чтобы избежать любых повреждений, которые могут возникнуть при хранении или транспортировке.
Мишени для распыления хрома отличаются сверхвысокой чистотой и однородностью. Они доступны в различных формах, степенях чистоты, размерах и по разным ценам. Мы специализируемся на производстве высокочистых материалов для нанесения тонких плёнок с превосходными характеристиками, максимально возможной плотностью и минимально возможным средним размером зёрен. Они используются для покрытия пресс‑форм, декоративных покрытий, деталей автомобилей, низкоэмиссионного стекла (low‑E glass), полупроводниковых интегральных схем, тонкоплёночных резисторов, графических дисплеев, в аэрокосмической отрасли, магнитной записи, сенсорных экранах, тонкоплёночных солнечных батареях и в других применениях физического осаждения из паровой фазы (PVD).