Настольный аппарат для нанесения покрытия магнетронным распылением с одной мишенью и возвратно поступательным движением стола для образцов


Производитель: CY Scientific Instrument, Китай

0 USD

Настольная установка для нанесения магнетронного напыления с одной мишенью - это высокоэффективное оборудование для нанесения магнетронного напыления, независимо разработанное нашей компанией, которое обладает характеристиками миниатюризации и стандартизации

Технические характеристики

Настольная одноцелевая магнетронная напыляющая машина - это независимо разработанное нашей компанией оборудование для магнетронного напыления с высокой производительностью, обладающее характеристиками миниатюризации и стандартизации. Магнетронная мишень может быть выбрана в диапазоне от 1 дюйма до 2 дюймов, и клиенты могут выбирать в зависимости от размера покрываемой подложки; источником питания является источник постоянного тока мощностью 150 Вт, который можно использовать для нанесения металлического напыления. Прибор для нанесения покрытия оснащен вентиляционным отверстием, которое может быть заполнено защитным газом. Если заказчику необходимо смешать газ, вы можете обратиться к персоналу для настройки высокоточного массового расходомера в соответствии с потребностями эксперимента. Прибор оснащен усовершенствованным набором турбомолекулярных насосов, максимальный вакуум может достигать 1,0 E-5Pa, также доступны для покупки другие типы молекулярных насосов.

Область применения настольной одноцелевой магнетронной напыляющей машины

Оборудование может использоваться для получения однослойных сегнетоэлектрических пленок, токопроводящих пленок, пленок из сплавов и т.д. По сравнению с аналогичным оборудованием этот прибор для нанесения одноцелевого магнетронного напыления имеет компактную конструкцию, высокоинтегрирован, компактен и может быть установлен на столе для использования. Это идеальное оборудование для приготовления пленок материалов в лаборатории.

Технические параметры

Возвратно-поступательный стол для отбора проб

размер

50*100 мм

Скорость возвратно-поступательного движения

0 ~ 50 мм/с

Магнетронный пистолет-мишень

Плоскость головки мишени

Круглая плоская мишень

Вакуум для распыления

10Па~0,2 Па

Диаметр мишени

2 дюйма

Толщина мишени

Рекомендуется 2 ~5 мм

Заданная температура головки

≦65℃

Вакуумная камера

Размер камеры

Около Φ180 мм × H 215 мм

Материал камеры

Кварц высокой чистоты

Обзорное окно

Всенаправленная прозрачность

Способ вскрытия

Съемная верхняя крышка

Источник питания

Источник питания постоянного тока

Максимальная мощность 150 Вт

Количество

1

Молекулярная насосная система

Подпорный насос

Роторно-лопастной насос

VRD-4

Скорость откачки

1,1 Л/С

Максимальный вакуум

5*10-1Па

Молекулярный насос

Скорость молекулярной откачки

600Л/С

Номинальная скорость

24000 об/мин

Максимальный вакуум

5*10-5Па

Величина вибрации

≦0,1 мкм

Время начала

≦4,5 мин

Время простоя

<7 мин

способ охлаждения

Водяное охлаждение + воздушное охлаждение

Охладитель воды

Температура охлаждающей воды

≦37℃

Расход охлаждающей воды

10Л/мин

Напряжение питания

220 В Переменного тока 50 Гц

 

Модель

Стоимость, доллары США

Desktop single target magnetron sputtering coater with reciprocating sample table

 

По запросу

Copyright MAXXmarketing GmbH
JoomShopping Download & Support