Вакуумный плазменный очиститель

Технические характеристики

Принцип действия плазменной очистки заключается в следующем:

• Эффект травления поверхности материала – физическое воздействие.

Большое количество ионов, возбужденных молекул, свободных радикалов и других активных частиц в плазме воздействует на поверхность твердого образца. Это не только удаляет загрязнения и примеси с поверхности, но и создает эффект травления, делая поверхность образца шероховатой. Образуются микроскопические неровности, что увеличивает удельную площадь поверхности и улучшает смачиваемость.

• Активация энергии связей и сшивание.

Энергия частиц в плазме составляет 0–20 эВ, в то время как большинство химических связей в полимерах имеют энергию 0–10 эВ. При воздействии плазмы на твердую поверхность происходит разрыв исходных химических связей. Свободные радикалы в плазме образуют с ними сетчатую сшитую структуру, что значительно повышает поверхностную активность.

• Образование новых функциональных групп – химическое воздействие.

Если в разрядный газ вводятся реакционноспособные газы, то на активированной поверхности материала происходят сложные химические реакции, приводящие к появлению новых функциональных групп, таких как гидроксильные (–OH), аминогруппы (–NH₂), карбоксильные (–COOH) и другие. Эти группы являются активными и значительно повышают поверхностную активность материала.

Преимущества производительности:

• Импортный источник питания для одежды: использование технологии высоковольтного измерения масла с распылением обеспечивает генерацию высококачественной плазмы, гарантируя превосходный эффект очистки;
• Полная безопасность: защита от перегрева, защита от перегрузок, защита от короткого замыкания, защита от различных ошибочных действий;
• Передовая технология разряда: специальная обработка и уникальная конструкция разрядного устройства обеспечивают стабильное и равномерное образование плазмы;
• Отличная герметичность вакуума: высокоточный вакуумный дизайн и производственные процессы, оснащенные импортными вакуумными насосами;
• Высококачественные компоненты: все детали устройства изготовлены из лучших отечественных и зарубежных комплектующих, что гарантирует превосходную производительность оборудования;
• Сверхнизкая температура очистки: соответствует требованиям к температуре в различных условиях, не оказывая теплового воздействия на очищаемые изделия;
• Точная механическая обработка: использование импортных CNC-станков с ЧПУ и контроль качества с помощью импортного координатно-измерительного оборудования;
• Подходит для образцов сложной формы: очистка изделий с различными сложными формами, включая внутренние отверстия и стенки, обеспечивая равномерную обработку со всех сторон.

Технические параметры