Устройство для плазменно-усиленного химического осаждения из газовой фазы HJT

Применение

Осаждение собственной пленки и легирование пленкой a-si.

Технические характеристики

• Быстрое радиочастотное зажигание с наименьшей отражающей мощностью для равномерного и стабильного осаждения пленки.
• Проверенная и стабильная многозарядная подача в радиочастотной технологии, совместимая даже с большими технологическими камерами.
• Плавная регулировка газа между диффузором и подложкой обеспечивает гибкие технологические возможности.
• Высокая производительность при относительно низкой стоимости, с возможностью индивидуального проектирования продукта.
• Модульная конструкция для простой установки и обслуживания, а также высочайший протокол безопасности от проектирования до изготовления.

Технические параметры