8-дюймовая печь окисления LPCVD (малая партия)

Технические характеристики

Производительность продукта:

• Вертикальная структура, высокоэффективная производственная мощность, 50 штук в партии.
• Стабильная и отличная однородность формирования пленки и хорошая повторяемость.
• Передовые технологии контроля гипоксии в микросреде.
• Контроль размера частиц кремниевых пластин стабилен и соответствует международным стандартам.
• Полностью автоматический процесс, хранение от коробки к коробке, хранение на 6 ящиков.
• Высокая степень интеграции, полная стыковка с заводской системой MES
• Соответствует SECSⅡ/ HSMS/ GEM и другим стандартам.

 Сопровождающие технологии:

• Окисление: сухой кислород/влажный кислород (DCE, HCL)
• Азотный и водородный отжиг (быстрый термический отжиг), спекание, легирование, затвердевание и т. д.
• LPCVD-процесс: поликремний, нитрид кремния, оксид кремния (PSG, BPSG и т.д.), TEOS, HTO/ LTO, SIPOS и т.д.