Диффузионная вертикальная печь для пластин диаметром 200 мм

Описание

Содержание

Замечания 

 Процесс подачи заявки

 ■ Атмосферные процессы

 - Мокрое и сухое окисление

 - Окисление в толстом слое (15 мкм)

 - Погружение в скважину

 - Отжиг H2, N2

 - Легирование POCL3

 - Легирование BBr3,B2H6

 ■ Процессы LP-CVD

 - Поли-Si

 - D-Поли Si

 - Нитрид : Si3N4

 - Нитрид с низким давлением (250 МПа)

 - Нитрид со сверхнизким давлением (~ 50 МПа)

 - Оксид - LTO, MTO, HTO, TEOS

 - Толстый оксид: TEOS (2 мкм )

 - SiC

Диапазон регулирования температуры

 - 200℃ ~ 1150℃ 

 - 200℃ ~ 1250℃ (Вариант трубки из SiC)

 Зона контроля температуры

 - 4 зоны

 Точность измерения температуры 

 - ±1℃ at 200℃ ~ 400℃

 - ±0.5℃ at 500℃ ~ 1250℃

Равномерность толщины пленки

 - От одной пластины к другой: <3%

 - От пластины к пластине: <3%

 - От одной пластины к другой : <3%

 Возможные технологические газы

 - H2, Ar, O2, N2O, N2, SiH4, NH3, B2H6,  PH3, SiH2Cl2, TEOS

 Размер пластины

 - 200mm

 Размер партии

 - 50 ~ 100 пластин

 Лодочный лифт 

 - 1 Автоматическое вращение оси (опция поворота)

 Тип контроллера

 - PLC Base PC Control (Windows 10 совместимость)

 Размеры  (W*D*H)

 - 1700 * 1100 * 2300 (mm) / Capa. 50 пластин.

 - 1700 * 1100 * 2850 (mm) / Capa. 100 пластин.

 Источник питания

 - 3 Phase 380V, 75A (система будет адаптирована к электроснабжению в конкретной стране)

 Охлаждающая вода

 - Max. 10 LPM 

 Сжатый сухой воздух

 - 500 ~ 1000 kPa

 Отвод тепла

 - 150 m³/h

Модель:

Стоимость:

Диффузионная вертикальная печь диаметром 200 мм

По запросу