8-дюймовая кремниевая эпитаксиальная система с несколькими пластинами серии SES

Система эпитаксии кремния серии SES представляет собой однорезонаторное оборудование для эпитаксии кремния с несколькими пластинами, подходящее для процессов эпитаксии кремния диаметром 4, 5, 6 и 8 дюймов. Реакционная камера серии SES имеет многопластинчатую конструкцию и использует индукционный нагрев для достижения высококачественного роста эпитаксиальной пленки. Она подходит для эпитаксиальных процессов толщиной от 5 до 150 мкм и может точно регулировать тип N и P допинг. Интеллектуальная конструкция взаимодействия человека и компьютера и эффективная защитная блокировка обеспечивают безопасность и стабильность системы.

Технические характеристики

• Подходит для процесса эпитаксии кремния в диапазоне 5-150 мкм.
• Передовые технологии индукционного нагрева и обдува воздушным потоком обеспечивают превосходную и стабильную производительность процесса.
• Конструкция из нескольких частей с плоской панелью, высокая грузоподъемность.
• Высокая степень автоматизации, высокая производственная мощность, низкие эксплуатационные расходы.

Размер пластины: 4, 5, 6, 8 дюймов.

Применимые материалы: кремний.

Применимый процесс: эпитаксия N&P кремния.

Применимая область применения: силовой полупроводник, материал подложки, область научных исследований.