CLP1000R6-2/ZM Оборудование для непрерывного нанесения PVD-покрытия из тяжелых редкоземельных металлов

В оборудовании используется технология вакуумного нанесения покрытия, и оно специально разработано для процесса формирования пленки из тяжелых редкоземельных элементов в процессе диффузии по границам зерен тяжелых редкоземельных элементов. Оборудование обладает характеристиками равномерной, плотной и прочной адгезии нанесенного слоя пленки, используемой при традиционной технологии вакуумного покрытия, а также имеет высокий коэффициент использования, большую производственную мощность и другие преимущества.

Технические характеристики

• Используется горизонтальная конструкция, и весь рабочий процесс выполняется автоматически.
• Размещение заготовок на поддонах позволяет сэкономить время и трудозатраты на зажим, снизить трудоемкость и эксплуатационные расходы.
• Выбран новый тип профессионально настроенного вращающегося катода с высокой степенью использования, и скорость распыления целевого материала может достигать 85% ~ 90%.
• Вращающийся материал мишени имеет более длительный срок службы, что значительно увеличивает цикл замены мишени в оборудовании и сокращает цикл разрушения воздуха.
• Хорошая система охлаждения корпуса мишени позволяет вращающемуся катоду выдерживать более высокую плотность мощности.

Равномерность толщины покрытия: ≤±5%.

Скорость повышения давления в оборудовании (площадь покрытия): ≤0,6Па/ч (без нагрузки, при комнатной температуре).

Эффективность охлаждения: разряжается в течение 20 минут, температура поверхности заготовки составляет ≤80℃.

Целевой уровень утечки: при толщине материала-мишени 10 мм скорость распыления материала-мишени составляет ≥82%

Количество катодов: 4 комплекта вращающихся катодов с высокой степенью использования.