Однозонная роторная трубчатая печь для приготовления графена PECVD

Однозонная роторная печь PECVD с вакуумным автоматическим податчиком и интерфейсом KF40, зарезервированным на конце трубы печи, может быть подключена к приемному резервуару. Устройство подачи использует шнековую подачу, порошок может подаваться в трубу печи с номинальной скоростью, а скорость подачи может быть изменена путем регулировки скорости вращения.

Технические характеристики

Однозонная роторная печь PECVD с вакуумным автоматическим податчиком и интерфейсом KF40, зарезервированным на конце трубы печи, может быть подключена к приемному резервуару. Устройство подачи использует шнековую подачу, порошок может подаваться в трубу печи с номинальной скоростью, а скорость подачи может быть изменена путем регулировки скорости вращения. Она может осуществлять непрерывное нанесение покрытия и модификацию порошковых материалов методом PECVD в условиях защиты атмосферы. Приемный резервуар может собирать обработанный порошок в условиях защиты атмосферы.

Оборудование оснащено радиочастотной мощностью 100 Вт на частоте 13,56 МГц. Оно может генерировать плазму в вакууме. Высокоэнергетическая плазма может активировать поверхность образца, эффективно усиливать эффект реакции и увеличивать скорость реакции. Этот вспомогательный метод широко используется в научных экспериментах, таких как получение графена и нанесение покрытий на частицы.

Это оборудование особенно подходит для экспериментов с гранулированными образцами. Благодаря механической передаче она может управлять непрерывным вращением рабочей трубки на 360 ° с регулируемой скоростью вращения, так что материалы в трубке непрерывно перемешиваются и перемешиваются и полностью контактируют с газом и плазмой, так что реакция образца более равномерная и стабильная.

Технические параметры