Технические характеристики
Система с двумя камерами PVD 350-DC — многофункциональное оборудование для осаждения тонких плёнок, состоящее из камеры загрузки образцов, промежуточной камеры и технологической камеры. Система способна создавать различные твёрдые плёнки, металлические, сплавные, химические соединения, полупроводниковые, керамические и диэлектрические композитные плёнки. Каждая камера может работать независимо для предотвращения перекрёстного загрязнения. В технологической камере возможно осаждение плёнок различными методами: комбинация 1 — концентрированное и радиальное распыление; комбинация 2 — распылительное осаждение и электронно-лучевая испарительная обработка. Оснащена системой передачи образцов, которая обеспечивает эффективную транспортировку при сохранении вакуума в камере распыления.
Технические параметры
|
PVD 350-постоянный ток |
Описание модуля |
Параметры конфигурации |
|
|
Камера для выращивания с магнетронным распылением |
Полость |
Материал полости |
SS316L |
|
Размер полости |
350 мм I.D. |
||
|
Температура выпечки |
Макс.150℃ |
||
|
Фоновый вакуум |
≤ 8×10-10мбар |
||
|
Насосная система |
700 л/с Молекулярный насос+10Л/с Механический насос |
||
|
Система измерения вакуума |
Датчик полного диапазона+ Датчик пленки |
||
|
Ионный насос /TSP /NEG |
Необязательный |
||
|
Держатель образца |
Размер выборки |
4 дюйма |
|
|
Способ нагрева подложки |
Так в оригинале подогревать |
||
|
Температура нагревателя подложки |
1000℃ |
||
|
Максимальная скорость вращения подложки |
30 Об/мин |
||
|
Целевая группа для распыления |
Количество орудий-мишеней |
4этот/полость |
|
|
Размер мишени для пистолета |
2 дюйма |
||
|
Конфигурация питания |
Постоянный ток（500 Вт）/Радиочастотный (300 Вт) |
||
|
Целевая головка |
Регулируемый угол и положение |
||
|
Способ забора воздуха |
Поглощение поверхности цели/Впускная полость |
||
|
Независимая перегородка магнетрона |
Пневматический привод |
||
|
Массовый расходомер |
Четырехсторонний/100 см |
||
|
Детали |
QCM |
Стандартная конфигурация |
|
|
РГА |
Необязательный |
||
|
Полость для роста при испарении электронным пучком |
Полость |
Материал полости |
SS316L |
|
Размер полости |
350 мм I.D. |
||
|
Температура выпечки |
Макс.150℃ |
||
|
Фоновый вакуум |
≤ 8×10-10мбар |
||
|
Насосная система |
700 л/с Молекулярный насос+10Л/с Механический насос |
||
|
Система измерения вакуума |
Датчик полного диапазона+ Датчик пленки |
||
|
Держатель образца |
Размер выборки |
4 дюйма |
|
|
Способ нагрева подложки |
Так в оригинале подогревать |
||
|
Температура нагревателя подложки |
1000℃ |
||
|
Максимальная скорость вращения подложки |
30 Об/мин |
||
|
Детали |
Набор источников испарения электронным лучом |
Вертикальный4 куб. см, горизонтальный4*4 куб. см |
|
|
Перегородка источника испарения |
Пневматический привод |
||
|
Комната для быстрых инъекций |
Полость |
Материал полости |
SS316L |
|
Температура выпечки |
Макс.150℃ |
||
|
Фоновый вакуум |
≤5×10-8мбар |
||
|
Насосная система |
80 л/с Молекулярный насос+10Л/с Механический насос |
||
|
Система измерения вакуума |
Датчик полного диапазона |
||
|
Детали |
Образец парковочной платформы |
Станция 3 |
|
|
Электрический/Ручной стержень для переноса образца |
Поездка≥700 мм |
||
|
Транзитная комната |
Полость |
Материал полости |
SS316L |
|
Температура выпечки |
Макс.150℃ |
||
|
Фоновый вакуум |
≤8×10-10мбар |
||
|
Насосная система |
80 л/с Молекулярный насос+10Л/с Механический насос |
||
|
Система измерения вакуума |
Датчик полного диапазона |
||
|
Детали |
Образец парковочной платформы |
Станция 3 |
|
|
Интеграция аппаратного и программного обеспечения |
Управляющее программное обеспечение |
Стандартная конфигурация |
|
|
Инфракрасный термометр |
Стандартная конфигурация |
||
|
Система выпечки |
Стандартная конфигурация |
||
|
Системный кронштейн |
Стандартная конфигурация |
||
|
Вакуумная система освещения |
Стандартная конфигурация |
||
|
Модель |
Стоимость, доллары США |
|
Система с двумя камерами PVD 350-DC |
По запросу |
JoomShopping Download & Support