70-мм роторный пистолет-распылитель для очистки плазмы

Плазменный очиститель с вращающимся распылителем диаметром 70 мм обладает стабильным эффектом обработки, а эффект плазменной очистки очень равномерный и стабильный, а обычный образец сохраняет хороший эффект в течение длительного времени после обработки.

Технические характеристики

Плазменный очиститель, также известный как устройство для плазменной обработки поверхности, представляет собой новую высокотехнологичную технологию, которая использует плазму для достижения результатов, недоступных обычным методам очистки. Плазма - это состояние вещества, также называемое четвертым состоянием вещества, и она не относится к обычным трем состояниям твердое-жидкое-газообразное. При подаче на газ достаточного количества энергии для его ионизации он переходит в плазменное состояние. К "активным" компонентам плазмы относятся: ионы, электроны, атомы, активные группы, возбужденные состояния нуклидов (метастазы), фотоны и тому подобное. Плазменный очиститель предназначен для обработки поверхности образца путем использования свойств этих активных компонентов, тем самым достигая цели очистки, нанесения покрытия и т.д., Улучшая поверхностную адгезию продукта и облегчая склеивание, распыление, печать и запечатывание продукта.

Преимущества

(1) Низкая температура обработки

Температура обработки может составлять от 80 ℃ до 50 ℃. Низкие температуры обработки не оказывают термического воздействия на поверхность образца.

(2) Отсутствие загрязнений в течение всего процесса

Плазменный очиститель сам по себе является экологически чистым устройством, которое не загрязняет окружающую среду и не вызывает загрязнения в процессе обработки. Его можно комбинировать с оригинальной производственной линией для достижения полностью автоматического производства в режиме онлайн, экономя затраты на рабочую силу.

(3) Стабильный эффект обработки

Эффект очистки плазмой очень равномерный и стабильный, и обычный образец сохраняет хороший эффект в течение длительного времени после обработки.

Принцип действия

Конструкция плазменного очистителя в основном состоит из трех основных компонентов, а именно источника питания с высоковольтным возбуждением, пистолета-распылителя с генератором плазмы и системы управления.

(A) Источник питания с высоковольтным возбуждением:

Для получения плазмы требуется высоковольтное возбуждение, а атмосферная низкотемпературная плазма возбуждается источником питания промежуточной частоты с частотой 10-40 кГц. Высокое напряжение составляет 4-10 кВ. Параметры можно регулировать в соответствии с фактическими условиями образца, и достигается оптимальный эффект модификации.

(B) Пистолет-распылитель для генератора плазмы:

Атмосферный низкотемпературный плазменный генератор можно разделить на два типа: струйный прямой впрыск и роторный прямой впрыск, разница в том, что зона обработки различна.

(C) Система управления:

Функции системы управления заключаются в управлении работой всего оборудования для очистки атмосферной низкотемпературной плазмой и защите системы в целом.

Технические параметры